1. 本选题研究的目的及意义
SiCN薄膜作为一种新型的非晶态陶瓷材料，具有优异的机械性能、热稳定性、化学惰性以及光学性能，在微电子、光电子、航空航天等领域具有广阔的应用前景。
传统的SiCN薄膜制备方法，如化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)等，存在工艺复杂、成本高、难以精确控制薄膜成分和结构等缺点。
激光化学气相沉积(LCVD)技术作为一种新型的薄膜制备方法，具有以下优点：
1.高精度：激光束可以聚焦到微米级别，实现薄膜沉积的精准控制。
2. 本选题国内外研究状况综述
SiCN薄膜作为一种新型的非晶态陶瓷材料，近年来受到了国内外研究者的广泛关注。
#国内研究现状国内对于SiCN薄膜的研究主要集中在以下几个方面：
1.SiCN薄膜的制备方法：传统的SiCN薄膜制备方法主要有化学气相沉积(CVD)[1]、等离子增强化学气相沉积(PECVD)[2]和磁控溅射[3]等。
近年来，一些新的制备方法，如激光化学气相沉积(LCVD)[4]、原子层沉积(ALD)[5]等也逐渐被应用于SiCN薄膜的制备。
3. 本选题研究的主要内容及写作提纲
#主要内容
本研究将采用激光化学气相沉积技术制备SiCN薄膜，并对其结构进行控制和表征。
主要研究内容包括：
1.激光化学气相沉积SiCN薄膜的工艺研究:研究不同激光参数（如激光功率、波长、脉冲宽度等）对SiCN薄膜沉积速率和质量的影响，确定最佳的激光参数。
研究不同前驱体（如硅烷、氨气、甲烷等）对SiCN薄膜成分和结构的影响，确定最佳的前驱体组合和比例。
4. 研究的方法与步骤
本研究将采用实验研究与理论分析相结合的方法，具体步骤如下：
1.搭建激光化学气相沉积系统:根据实验需求，搭建激光化学气相沉积系统，包括激光器、反应腔、气体控制系统、真空系统、温控系统等。
2.优化激光化学气相沉积工艺参数:通过正交实验设计等方法，研究不同激光参数（如激光功率、波长、脉冲宽度等）、前驱体种类和比例、基底材料和温度、反应腔压力等对SiCN薄膜沉积速率和质量的影响，确定最佳的工艺参数。
3.制备SiCN薄膜:利用优化后的激光化学气相沉积工艺参数，在不同的基底材料上制备SiCN薄膜。
5. 研究的创新点
本研究的创新点主要体现在以下几个方面：
1.采用激光化学气相沉积技术制备SiCN薄膜:相比于传统的SiCN薄膜制备方法，激光化学气相沉积技术具有高精度、高纯度、高效率、多功能性等优点，可以实现对SiCN薄膜成分和结构的精确控制。
2.系统研究激光参数、前驱体比例、基底温度等工艺参数对SiCN薄膜结构的影响:通过系统研究不同工艺参数对SiCN薄膜结构的影响，建立SiCN薄膜结构与其制备工艺参数之间的关系，为SiCN薄膜的结构控制提供理论依据。
3.探索SiCN薄膜结构与其性能之间的关系:通过分析SiCN薄膜的结构与其力学性能、光学性能、电学性能、化学稳定性等之间的关系，为SiCN薄膜的性能优化和应用提供理论依据和技术支持。
6. 计划与进度安排
第一阶段 （2024.12~2024.1）确认选题，了解毕业论文的相关步骤。
第二阶段（2024.1~2024.2）查询阅读相关文献，列出提纲
第三阶段（2024.2~2024.3）查询资料，学习相关论文
7. 参考文献（20个中文5个英文）
1 王海粟. 浅议会计信息披露模式[J]. 财政研究, 2004, 21(1): 56-58.
2 刘丽, 王晓慧, 董鹏, 等. 激光化学气相沉积SiCN薄膜的研究进展[J]. 材料导报, 2017, 31(16): 1-6.
3 张涛, 王志强, 刘大成. SiCN薄膜的制备方法及性能研究进展[J]. 表面技术, 2019, 48(9): 1-10.
以上是毕业论文开题报告，课题毕业论文、任务书、外文翻译、程序设计、图纸设计等资料可联系客服协助查找。
