热蒸发镀膜设备结构设计开题报告

 2023-10-16 08:51:19

1. 研究目的与意义

国内外背景:
随着可持续发展观的深入普及和社会经济的快速发展,经济与环保协同发展成为当 下企业发展和科技创新的主要趋势。

传统的通电镀膜技术会产生较大的污染,且镀膜质 量不高,经济效益低下,已逐渐退出历史舞台,取而代之的是技术更加先进、镀膜质量 更加优秀的真空镀膜技术。

真空镀膜技术不仅能够满足人们对于产品外观的需求,而且 在镀膜过程中不会对周围环境产生较大的污染。

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2. 研究内容和预期目标

毕设内容:
设计一台热蒸发设备,其中包含真空装置(设于机架内),真空装置为一个大型钟罩,钟罩内有转台,转台两头设有两个基片架或多个基片架,整个呈现一个圆形台,其中基片架可拆卸调节翻转,将待镀膜的基片卡设在基片架上,真空室内被加热的靶材蒸发降解在基片上,待蒸发完成,再转动装置,是基片架翻转使其另一面也受到镀膜。


预期目标:
(1)完成真空装置设计
(2)完成机架内模型设计
(3)完成基片架可转动操作设计

3. 研究的方法与步骤

研究方法:
1.在网络上寻找相关资料, 认真学习热蒸发镀膜的相关知识和 SolidWorks, 为进一 步设计打下基础。


2.通过老师的指导, 进一步了解课题的要求。


3.对相关文献资料进行比对,构建自己的方案设计。

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4. 参考文献

[1] 邱英浩, 曹晓明. 真空镀膜技术的现状及进展[J]. 天津冶金,2014 (5) :45-48 [2] 白秀琴,李建,严新平等. 真空镀膜技术在塑料表面金属化上的应用[J]。

武 汉理工大学学报, 2015 ,29 (6) :947-950.
[3] 唐晋发, 顾培夫,刘 旭.现代光学薄膜技术[M]. 杭州: 浙江大学出版社, 2006: 1 93 ~ 227.
[4]Knapp J A ,Browning J F. Journal of Applied Physics[J] ,2009 ,105( 5) : 1 ~ 7 [5]马 爱 华,郑 华,刘 实,等. 材 料 研 究 学 报[J] ,2005 ,19( 1) : 64 - 71
[6]朱生发,刘天伟,吴艳瓶,等. 真空科学与技术学报[J] ,2012 ,32( 3) : 240 - 243

5. 计划与进度安排

(1) 2022-12-15~2024-3-08 查阅文献资料,进行文献综述,撰写开题报告,翻译英文文献 ;

(2) 2024-03-09~2024-03-22 查阅相关资料,分析热蒸发镀膜基本原理和结构;

(3) 2024-03-23~2024-04-05 开展机械模型设计;

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